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ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜

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メーカー 6bea3427e8 発売日 2025-05-23 12:22 定価 20000円
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ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜

ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜,41929_2024_1119_Fig1_HTML.png41929_2024_1119_Fig1_HTML.png,高知工科大学 ナノテクノロジー研究所 研究内容高知工科大学 ナノテクノロジー研究所 研究内容,ナノ階層構造膜の新規合成プロセスと超高感度ガスセンサの開発ナノ階層構造膜の新規合成プロセスと超高感度ガスセンサの開発,高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術の高い絶縁破壊電界強度を持ったナノ構造セラミックス成膜技術の

 

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